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在加工時(shí)，全像材料可能會(huì)改變其厚度。為了考慮厚度變化的影響，我們首先將光柵向量分成兩個(gè)分量，K∥和K⊥，其中K⊥為垂直表面法線，K∥與表面法線平行。如果厚度從t到t'發(fā)生變化，則可以透過(guò)修改K∥計(jì)算出新的光柵向量，如方程式（4）。圖 4. 當(dāng)全像材料收縮時(shí)，厚度從t 減少到 t'。我們現(xiàn)在已經(jīng)介紹了體積全像圖模型的基礎(chǔ)知識(shí)。

薄膜理論的慣例是計(jì)算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設(shè)了一個(gè)虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。這個(gè)慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對(duì)應(yīng)餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來(lái)描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過(guò)程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠(yuǎn)只有三條線。

同樣，OpticStudio 提供了分析特性的能力，例如最大局部表面斜率，並在優(yōu)化過(guò)程中控制這些特性以確保最終的光學(xué)設(shè)計(jì)是可製造的。射出成型技術(shù)使可能的創(chuàng)新光學(xué)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)技術(shù)，具有大規(guī)模生產(chǎn)的模塊很多好處。鏡頭可以設(shè)計(jì)成具有復(fù)雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡(jiǎn)化組裝並消除對(duì)齊的需要。Zemax 工具使注塑光學(xué)元件的可能性最大化變得簡(jiǎn)單。

厚的注塑件冷卻時(shí)間長(zhǎng)，會(huì)產(chǎn)生較大的收縮，因此厚度大是凹痕產(chǎn)生的根本原因，設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)加以注意，要盡量避免厚壁部件，若無(wú)法避免厚壁不見(jiàn)，應(yīng)設(shè)計(jì)成空心的，厚的部件就平滑過(guò)度到公稱壁厚，用大的圓弧代替尖角，可以消除或者最大限度地減輕尖角附近產(chǎn)生的凹痕。